Микроэлектроника: В НИИТМ завершают создание опытной установки ПХО для пластин 300 мм

MForum.ru

Микроэлектроника: В НИИТМ завершают создание опытной установки ПХО для пластин 300 мм

20.03.2025, MForum.ru


ПХО, плазмохимическое осаждение, один из технологических процессов, которые используются в производстве полупроводниковых структур на пластинах. Это химическое осаждение тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы. В этом процессе газоразрядная плазма используется для разложения реакционного газа на активные радикалы. Управление параметрами плазмы позволяет управлять процессом роста покрытия, контролируя формирование заданного микрорельефа, структуры и других характеристик покрытия.

В НИИТМ создана опытная кластерная установка, она еще дорабатывается, но летом должны пройти тестовые испытания в НИИМЭ, а затем планируется вывод на серийное производство. Об этом рассказывают Известия.

НИИТМ – предприятие в структуре компании Нанотроника, созданной ГК Элемент для разработок оборудования полупроводникового производства.

ПХО, это не единственная разработка Нанотроники, нет сомнения, что вскоре мы услышим и о других. Скажем, раз сделали ПХО, то наверняка близка к готовности и ПХТ – установка плазмохимического травления, еще один важная установка из тех, что используются в кремниевом производстве.  (Кстати, установку ПХТ под пластины 200 мм выпускает российская компания НПП ЭСТО, Зеленоград). 

Также уже сообщалось, что «на завершающей стадии» находится разработка установка для эпитаксии нитрида галлия, с планами запуска в серию – с 2025 года. Идет разработка сложной установки для ионного легирования, в частности, удалось собрать часть команды, которая занималась разработкой в советское время, когда эта установка выпускалась в серийно.

В общем, процесс воссоздания ряда установок, необходимых для процесса выращивания полупроводниковых структур на пластинах идет в Элемент полным ходом.

Интересно, что новая установка ПХО позволяет работать с пластинами 300 мм с техпроцессами вплоть до 28 нм. Соответствующего фаба в России еще нет, но ждем, ждем. Да и в мире оборудование под пластины 300 мм востребовано больше, чем под 200 мм.

Установку ПХО в НИИТМ разрабатывали еще с конца 2021 года. В опытной установке 4 технологических модуля, объединенных роботизированной транспортной системой для перемещения пластин. Система управления и ПО – российской разработке.

Создание российской установки ПХО — хорошая для отрасли новость, поскольку это очередной шаг вперед в реальном импортозамещении. Речь идет о еще одном краеугольном камне в фундаменте полного цикла производства микроэлектроники в нашей стране. Стоит отметить, что в скором времени дело может дойти и до конкуренции между отечественными поставщиками, поскольку в НИИ молекулярной электроники (НИИМЭ) также занимаются разработкой кластера плазмохимического осаждения под техпроцессы 90–65 нанометров (ОКР Кластер). Или речь о той же разработке НИИТМ?

--

За новостями телекома и IT удобно следить в телеграм-канале abloud62. Региональные новости и анонсы пресс-релизов вы найдете в канале abloudRealTime, также подключайтесь к каналу Бойко про телеком ВКонтакте

теги: микроэлектроника производственное оборудование ПХО плазмохимическое осаждение НИИТМ Нанотроника Элемент

-- 

© Алексей Бойко, MForum.ru


Публикации по теме:

24.03. [Новости компаний] Микроэлектроника: В Китае расширяют возможности производства по техпроцессу 5нм и менее? / MForum.ru

20.02. [Новости компаний] Микроэлектроника: Lam Research представляет два новых инструмента для производства ИИ-чипов / MForum.ru

14.01. [Новости компаний] Микроэлектроника: Правительство Тайваня разрешило TSMC производить чипы 2нм за рубежом / MForum.ru

02.12. [Новости компаний] Микроэлектроника: Правительство Байдена в последний раз представило новые ограничения в области экспорта микроэлектроники в Китай / MForum.ru

14.11. [Новости компаний] Микроэлектроника: В ASML надеются на рост спроса на свои решения вплоть до 2030 года / MForum.ru

Обсуждение (открыть в отдельном окне)

В форуме нет сообщений.

Новое сообщение:
Complete in 1 ms, lookup=0 ms, find=1 ms

Последние сообщения в форумах

Все форумы »



Поиск по сайту:

Подписка:

Подписаться
Отписаться


Новости

16.06. [Новинки] Слухи: Планшет OnePlus Pad Lite будет базироваться на Helio G100 SoC / MForum.ru

13.06. [Новинки] Слухи: Предсказана производительность бенчмарков Qualcomm Snapdragon 8 Elite 2 / MForum.ru

13.06. [Новинки] Слухи: Раскрыты подробности о Redmi K Pad / MForum.ru

13.06. [Новинки] Слухи: Vivo T4 Lite готовится к анонсу / MForum.ru

11.06. [Новинки] Слухи: OnePlus Nord 5 и Nord CE5 могут представить 8 июля / MForum.ru

11.06. [Новинки] Слухи: Появились фото Nothing Phone (3) / MForum.ru

11.06. [Новинки] Анонсы: Honor X6c дебютирует с дисплеем 120 Гц и Helio G81 Ultra / MForum.ru

10.06. [ПО] Анонсы: iOS 26 анонсирована с новым дизайном Liquid Glass, обновленным приложением Visual Intelligence и Games / MForum.ru

10.06. [Новинки] Слухи: Раскрыт дизайн и некоторые спецификации Vivo Y400 Pro / MForum.ru

09.06. [Новинки] Анонсы: Представлен бюджетный 5G-смартфон Vivo Y300c / MForum.ru

09.06. [Новинки] Слухи: Samsung Unpacked 2025 состоится в середине июля / MForum.ru

06.06. [Новинки] Анонсы: OnePlus Pad 3 со Snapdragon 8 Elite представлен официально / MForum.ru

06.06. [Новинки] Анонсы: Представлен Redmi Pad 2 с экраном 90 Гц и аккумулятором 9000 мАч / MForum.ru

05.06. [Новинки] Слухи: Раскрыты основные спецификации Honor MagicPad 3 / MForum.ru

05.06. [Новинки] Анонсы: OnePlus 13s – компактный смартфон на базе Snapdragon 8 Elite / MForum.ru

04.06. [Новинки] Анонсы: 5G-смартфон ZTE Blade A76 представлен официально / MForum.ru

03.06. [Новинки] Анонсы: 4G-смартфон Realme C71 представлен официально / MForum.ru

03.06. [Новинки] Анонсы: Vivo Y19s Pro представлен официально / MForum.ru

03.06. [Новинки] Слухи: Раскрыты дизайн и спецификации Infinix Smart 10 / MForum.ru

02.06. [Новинки] Анонсы: Realme C73 5G в Индии появится 2 июня / MForum.ru