В Новосибирске на заводе “Экран-оптические системы” намерены запустить производство эпитаксиальных пластин на основе гетероструктур арсенида галлия, а позднее - нитрида галлия.

Для этого закупается промышленная установка во Франции, которая будет размещена на территории Института физики полупроводников Сибирского отделения РАН. Позднее будет приобретена и запущена вторая установка, которая станет работать с нитридом галлия.

Одним из потенциальных потребителей новой продукции может стать АО “Информационные спутниковые системы” им. академика М.Ф.Решетнева, занимающееся сборкой спутников. Запуск производства пластин из арсенида галлия намечен на лето 2019 года.

В проекте принимают участие РАТМ-Холдинг (в который входит Экран-оптические системы) и Институт физики полупроводников им. А.В.Ржанова СО РАН. Общие вложения в производство оцениваются в 2.8 млрд руб. к 2025 году.

Источник

+

Подписывайтесь на Telegram-канал, посвященный новостям микроэлектроники

+ +